本發(fā)明涉及可用于例如通過(guò)光刻技術(shù)制造設(shè)備的方法和裝置，并且涉及使用光刻技術(shù)制造設(shè)備的方法。本發(fā)明更具體地涉及計(jì)量傳感器和具有這種計(jì)量傳感器的光刻裝置，并且更具體地還涉及這種計(jì)量傳感器的照射布置。

背景技術(shù)：

1、光刻裝置是一種將期望圖案施加到襯底上(通常是襯底的目標(biāo)部分)的機(jī)器。光刻裝置可以被用于例如集成電路(ic)的制造中。在這種情況下，圖案化設(shè)備(替代地，其被稱為掩?；蜓谀０?可以被用來(lái)生成要在ic的獨(dú)立層上形成的電路圖案。該圖案可以被轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶圓)上的目標(biāo)部分(例如，包括管芯的一部分、一個(gè)管芯或多個(gè)管芯)上。圖案的轉(zhuǎn)移通常經(jīng)由成像到輻射敏感材料層(光刻膠)上而被提供在襯底上。一般來(lái)說(shuō)，單個(gè)襯底將包含連續(xù)圖案化的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。這些目標(biāo)部分通常被稱為“場(chǎng)”。

2、在復(fù)雜設(shè)備的制造中，通常會(huì)執(zhí)行許多光刻圖案化步驟，從而在襯底上的連續(xù)層中形成功能性特征。因此，光刻裝置的性能的一個(gè)關(guān)鍵方面是相關(guān)于先前層中(由相同的裝置或不同的光刻裝置)制定的特征正確且準(zhǔn)確地放置所施加的圖案的能力。為這個(gè)目的，襯底被提供有一組或多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。每個(gè)標(biāo)記都是一個(gè)結(jié)構(gòu)，其位置可以在稍后使用位置傳感器(通常是光學(xué)位置傳感器)進(jìn)行測(cè)量。光刻裝置包括一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器，通過(guò)該一個(gè)或多個(gè)對(duì)準(zhǔn)傳感器可以準(zhǔn)確地測(cè)量襯底上的標(biāo)記的位置。不同類(lèi)型的標(biāo)記和不同類(lèi)型的對(duì)準(zhǔn)傳感器已知來(lái)自不同制造商以及來(lái)自相同制造商的不同產(chǎn)品。

3、在其他應(yīng)用中，計(jì)量傳感器被用于測(cè)量襯底上的曝光結(jié)構(gòu)(在光刻膠中和/或在蝕刻之后)。一種快速并且非侵入式的專用檢查工具是散射儀，其中輻射束被引導(dǎo)到襯底表面上的目標(biāo)上，并且散射或反射束的屬性被測(cè)量。已知散射儀的示例包括us2006033921a1和us2010201963a1中所述類(lèi)型的角度分辨散射儀。除了通過(guò)重建測(cè)量特征形狀之外，還可以使用諸如已公布的專利申請(qǐng)us2006066855a1中所述的裝置測(cè)量基于衍射的重疊。使用衍射階暗場(chǎng)成像的基于衍射的重疊計(jì)量使得能夠?qū)^小的目標(biāo)進(jìn)行重疊測(cè)量。暗場(chǎng)成像計(jì)量的示例可以在國(guó)際專利申請(qǐng)wo2009/078708和wo2009/106279中找到，其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用并入本文中。該技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展已在已公布的專利出版物us20110027704a、us20110043791a、us2011102753a1、us20120044470a、us20120123581a、us20130258310a、us20130271740a和wo2013178422a1中進(jìn)行了描述。這些目標(biāo)可以小于照射斑點(diǎn)，并且可以被晶圓上的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)包圍。使用復(fù)合光柵目標(biāo)，可以在一個(gè)圖像中測(cè)量多個(gè)光柵。所有這些申請(qǐng)的內(nèi)容也通過(guò)引用并入本文中。

4、在一些計(jì)量應(yīng)用中，諸如在一些散射儀或?qū)?zhǔn)傳感器中，計(jì)量目標(biāo)中的缺陷可能導(dǎo)致來(lái)自該目標(biāo)的測(cè)量值因波長(zhǎng)/偏振而變化。因此，有時(shí)通過(guò)使用多種不同波長(zhǎng)和/或偏振(或更一般地，多種不同照射條件)執(zhí)行相同測(cè)量來(lái)影響對(duì)這種變化的校正和/或減輕。對(duì)于這種計(jì)量應(yīng)用，改進(jìn)照射的光譜分量的切換和選擇是所期望的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、根據(jù)當(dāng)前公開(kāi)的一個(gè)方面，提供了一種源選擇模塊，包括可調(diào)衍射元件，該可調(diào)衍射元件包括多個(gè)像素。源選擇模塊還包括光色散元件，該光色散元件被配置為接收第一波長(zhǎng)的第一光和第二波長(zhǎng)的第二光。光色散元件將第一光在空間上分布在多個(gè)像素中的第一像素上方，以生成第一光的零階衍射和第一光的非零階衍射。光色散元件還將第二光在空間上分布在多個(gè)像素中的第二像素上方，以生成第二光的零階衍射和第二光的非零階衍射。源選擇模塊包括連續(xù)可變?yōu)V波器，該連續(xù)可變?yōu)V波器包括第一區(qū)域和第二區(qū)域。連續(xù)可變?yōu)V波器被布置在這樣的位置，使得由第一區(qū)域接收的第一光的零階和由第二區(qū)域接收的第二光的零階被連續(xù)可變?yōu)V波器透射或反射。第一光的非零階被連續(xù)可變?yōu)V波器阻擋在第一區(qū)域外，第二光的非零階被連續(xù)可變?yōu)V波器阻擋在第二區(qū)域外。

2、可選地，多個(gè)像素中的每一者可以包括可控光柵。

3、可選地，可調(diào)衍射元件可以包括光柵光閥。

4、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器可以被布置在光色散元件與可調(diào)衍射元件之間的光路上。

5、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器可以被布置在距可調(diào)衍射元件一定距離處或距可調(diào)衍射元件的共軛圖像平面一定距離處，使得第一光的零階衍射和非零階衍射與第二光的零階衍射和非零階衍射在空間上分離。

6、可選地，光色散元件可以包括棱鏡。

7、可選地，光色散元件可以包括光色散光柵。

8、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器可以包括連續(xù)變化的帶通層。

9、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器的平面可以相對(duì)于可調(diào)衍射元件的平面傾斜。

10、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器可以關(guān)于可調(diào)衍射元件平行移動(dòng)，并且從而可以修改衍射元件的一個(gè)或多個(gè)像素位置處的局部透射/反射屬性。

11、可選地，用于透射/反射和阻擋輻射的濾波特性在連續(xù)可變?yōu)V波器的區(qū)域上呈線性分布。

12、可選地，根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)的模塊，其中濾波特性在連續(xù)可變?yōu)V波器的區(qū)域上呈非線性分布。

13、可選地，連續(xù)可變?yōu)V波器可以在第一區(qū)域中具有第一光學(xué)濾波特性，并且在第二區(qū)域中具有第二光學(xué)濾波特性。

14、可選地，第一波長(zhǎng)和第二波長(zhǎng)二者都可以在400nm至900nm的范圍內(nèi)。在一些實(shí)施方式中，第一波長(zhǎng)和第二波長(zhǎng)二者都可以在400nm至2000nm的范圍中，或者在400nm至1600nm的范圍中。

15、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種方法。接收第一波長(zhǎng)的第一光和第二波長(zhǎng)的第二光。光色散元件將第一光在空間上分布在包括多個(gè)像素的可調(diào)衍射元件的第一像素上，并且將第二光在空間上分布在可調(diào)衍射元件的多個(gè)像素中的第二像素上。第一像素生成第一光的零階衍射和第一光的非零階衍射。第二像素生成第二光的零階衍射和第二光的非零階衍射。連續(xù)可變?yōu)V波器在連續(xù)可變?yōu)V波器的第一區(qū)域中接收第一光的零階衍射，并在連續(xù)可變?yōu)V波器的第二區(qū)域中接收第二光的零階。連續(xù)可變?yōu)V波器還在第一區(qū)域外接收第一光的非零階衍射，以及在第二區(qū)域外接收第二光的非零階。連續(xù)可變?yōu)V波器透射或反射第一區(qū)域的第一光的零階衍射以及第二區(qū)域的第二光的零階衍射。連續(xù)可變?yōu)V波器將第一光的非零階阻擋在第一區(qū)域外，以及將第二光的非零階阻擋在第二區(qū)域外。

16、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種非瞬態(tài)計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，其包括機(jī)器可讀指令。指令在由計(jì)算機(jī)系統(tǒng)執(zhí)行時(shí)可以被配置為使計(jì)算機(jī)系統(tǒng)控制如本文所描述的源選擇模塊以執(zhí)行如上所描述的方法。

17、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種處理器和相關(guān)聯(lián)的存儲(chǔ)介質(zhì)。存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括上述非瞬態(tài)計(jì)算機(jī)程序，使得所述處理器可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執(zhí)行如上所描述的方法。

18、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種計(jì)量設(shè)備，包括如上所述的處理器和相關(guān)聯(lián)的存儲(chǔ)介質(zhì)，以便可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執(zhí)行如上所描述的方法。

19、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種光刻裝置，包括如本文所描述的源選擇模塊。

20、根據(jù)本公開(kāi)的另一個(gè)方面，提供了一種光刻器件，包括如上所描述的處理器和相關(guān)聯(lián)的存儲(chǔ)介質(zhì)，以便可操作以控制如本文所描述的源選擇模塊以執(zhí)行如上所描述的方法。