本公開涉及清潔設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種清洗裝置、清潔基站、清潔系統(tǒng)及清潔基站的清潔方法。

背景技術(shù)：

1、近年來，清潔機器人因其智能化程度較高而越來越受到人們的歡迎，清潔機器人為人們的生活帶來了很大的便利。清潔機器人配置有清潔基站，清潔基站能夠供清潔機器人停靠并實現(xiàn)清洗拖布、充電、集塵等功能，清洗拖布產(chǎn)生的臟污容易殘留于清潔基站的底盤，需要用戶定期手動清理，增加了用戶的勞動負擔，降低了用戶體驗。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，有鑒于此，有必要提供一種清洗裝置、清潔基站、清潔系統(tǒng)及清潔基站的清潔方法，能夠?qū)η鍧嵒镜牡妆P和清潔機器人的拖布進行清潔，減少底盤臟污殘留，提升用戶體驗。

2、本公開的實施例提供了一種清洗裝置，應(yīng)用于清潔基站，清潔基站包括基站主體，基站主體底部具有供清潔機器人?？康耐？课?，清潔機器人包括主體和可旋轉(zhuǎn)地設(shè)于主體的清潔件，清潔件用于拖擦待清潔面，清洗裝置包括底盤、清洗肋盤和限位組件。底盤設(shè)于基站主體的?？课惶?。清洗肋盤可旋轉(zhuǎn)設(shè)置在底盤，清洗肋盤的頂部設(shè)有第一清洗部，清洗肋盤的底部設(shè)有第二清洗部，第一清洗部用于與清潔機器人的清潔件摩擦接觸，第二清洗部用于與底盤接觸。限位組件連接于底盤和/或清洗肋盤，限位組件用于在清洗肋盤在沿預(yù)設(shè)方向相對于底盤轉(zhuǎn)動預(yù)設(shè)角度后阻止其繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，清洗肋盤沿預(yù)設(shè)方向從第一停止狀態(tài)轉(zhuǎn)動到第二停止狀態(tài)所轉(zhuǎn)過的角度大于或等于360°；在清潔件支撐于清洗肋盤上并旋轉(zhuǎn)，且清洗肋盤相對于底盤處于停止旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，通過第一清洗部清潔清潔件；在清洗肋盤相對于底盤旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，通過第二清洗部清潔底盤。

3、在以上一個或多個可選的實施方式中，通過清潔件沿第一方向轉(zhuǎn)動帶動清洗肋盤相對于底盤轉(zhuǎn)動而清潔底盤，直至清洗肋盤在轉(zhuǎn)動預(yù)設(shè)角度后在限位組件的作用下停止轉(zhuǎn)動，清潔件繼續(xù)沿第一方向轉(zhuǎn)動而清洗清潔件；通過清潔件沿第二方向轉(zhuǎn)動帶動清洗肋盤相對于底盤轉(zhuǎn)動而清潔底盤，直至清洗肋盤在轉(zhuǎn)動預(yù)設(shè)角度后在限位組件的作用下停止轉(zhuǎn)動，清潔件繼續(xù)沿第二方向轉(zhuǎn)動而清洗拖布；其中，第一方向與第二方向相反。

4、在以上一個或多個可選的實施方式中，清洗肋盤從第一停止狀態(tài)轉(zhuǎn)動到第二停止狀態(tài)轉(zhuǎn)過n圈，其中，n為整數(shù)。

5、在以上一個或多個可選的實施方式中，基站主體設(shè)有供液通道，第一清洗部上用于與清潔件接觸的表面形成有第一凹槽，第一凹槽用于承接供液通道流出的液體，在清潔件支撐于清洗肋盤并相對于清洗肋盤轉(zhuǎn)動的狀態(tài)下，第一凹槽內(nèi)的液體與清潔件接觸以潤濕清潔件。

6、在以上一個或多個可選的實施方式中，底盤或基站主體包括與供液通道連通的注液口；清洗肋盤處于第一停止狀態(tài)下或第二停止狀態(tài)下時，注液口與第一凹槽相對而流體連通。

7、在以上一個或多個可選的實施方式中，清洗肋盤包括旋轉(zhuǎn)中心，清洗肋盤背離旋轉(zhuǎn)中心的一端設(shè)有第一開口，第一開口連通第一凹槽。

8、在以上一個或多個可選的實施方式中，第一凹槽沿從清洗肋盤的旋轉(zhuǎn)中心至遠離清洗肋盤的旋轉(zhuǎn)中心的方向延伸，第一清洗部包括凸點，凸點至少位于第一凹槽寬度方向的兩側(cè)。

9、在以上一個或多個可選的實施方式中，限位組件包括連接件、旋轉(zhuǎn)件和限位件；連接件連接旋轉(zhuǎn)件和清洗肋盤；旋轉(zhuǎn)件可轉(zhuǎn)動地設(shè)于底盤，旋轉(zhuǎn)件的轉(zhuǎn)動軸線沿豎向方向延伸，連接件與旋轉(zhuǎn)件周向固定；

10、限位件可移動地設(shè)于底盤；

11、旋轉(zhuǎn)件設(shè)有螺旋槽，限位件伸入螺旋槽，螺旋槽設(shè)有第一止位和第二止位，限位件位于第一止位時，清洗肋盤處于第一停止狀態(tài)，限位件位于第二止位時，清洗肋盤處于第二停止狀態(tài)；定義第一直線，第一直線穿過第一止位、旋轉(zhuǎn)件的圓心和第二止位；旋轉(zhuǎn)件旋轉(zhuǎn)帶動限位件沿第一直線從第一止位和第二止位中的一個移動至另一個。

12、在以上一個或多個可選的實施方式中，限位組件包括安裝座，安裝座固定設(shè)于底盤，且設(shè)于旋轉(zhuǎn)件的下方，安裝座設(shè)有滑槽，滑槽沿第一直線的延伸方向設(shè)置，限位件一端滑動設(shè)置于滑槽內(nèi)，限位件的另一端伸入旋轉(zhuǎn)件的螺旋槽內(nèi)。

13、在以上一個或多個可選的實施方式中，旋轉(zhuǎn)件包括第一擋塊和第二擋塊，第一擋塊位于靠近螺旋槽中心的尾端，并形成第一止位，第二擋塊位于遠離螺旋槽中心的起始端，并形成第二止位。

14、在以上一個或多個可選的實施方式中，底盤包括安裝口，安裝口貫穿底盤，連接件凸出安裝口，并連接清洗肋盤，安裝口的邊緣設(shè)有位于底盤內(nèi)的延伸壁，限位組件包括軸承，軸承位于旋轉(zhuǎn)件和延伸壁之間。

15、在以上一個或多個可選的實施方式中，限位組件包括連接件、旋轉(zhuǎn)件和限位件；連接件固定于底盤；旋轉(zhuǎn)件套設(shè)于連接件，并轉(zhuǎn)動連接連接件；清洗肋盤固定連接旋轉(zhuǎn)件；限位件位于旋轉(zhuǎn)件和連接件之間，限位件的一端固定于連接件，并環(huán)繞連接件，另一端固定于旋轉(zhuǎn)件。

16、在以上一個或多個可選的實施方式中，底盤包括第一底壁和第一側(cè)壁，第一側(cè)壁連接第一底壁，第一側(cè)壁圍設(shè)第一底壁的至少部分邊緣形成第一腔室，第一底壁中的部分凹陷形成第二腔室，清洗肋盤設(shè)于第一腔室，第二腔室上方覆蓋有過濾裝置，第一腔室與第二腔室通過過濾裝置連通，第二腔室通過抽污口與底盤外部連通；在清洗肋盤相對于底盤旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，第二清洗部清潔第一腔室所產(chǎn)生的污物經(jīng)過濾裝置進入第二腔室。

17、在以上一個或多個可選的實施方式中，清洗肋盤包括兩個，兩個清洗肋盤沿底盤的左右方向設(shè)置，過濾裝置設(shè)于兩個清洗肋盤之間，過濾裝置具有第二底壁和形成于第二底壁上的第一過濾網(wǎng)孔部，清洗肋盤相對于底盤旋轉(zhuǎn)的范圍經(jīng)過第一過濾網(wǎng)孔部所在區(qū)域。

18、在以上一個或多個可選的實施方式中，第一過濾網(wǎng)孔部設(shè)置在兩個清洗肋盤之間，且第一過濾網(wǎng)孔部關(guān)于底盤的左右方向的中心線對稱布置。

19、在以上一個或多個可選的實施方式中，兩個清洗肋盤旋轉(zhuǎn)所形成旋轉(zhuǎn)圓相切或相交，且相交或相切區(qū)域位于第一過濾網(wǎng)孔部所在區(qū)域。

20、在以上一個或多個可選的實施方式中，過濾裝置包括第二側(cè)壁和第二過濾網(wǎng)孔部，第二側(cè)壁連接第一側(cè)壁，沿第二側(cè)壁的厚度方向，第二過濾網(wǎng)孔部貫穿第二側(cè)壁，第二過濾網(wǎng)孔部的單個網(wǎng)孔的面積大于第一過濾網(wǎng)孔部的單個網(wǎng)孔的面積；過濾裝置可拆卸連接底盤。

21、在以上一個或多個可選的實施方式中，清洗肋盤包括中心座和至少兩個支臂；

22、底盤包括第一底壁和第一側(cè)壁，第一側(cè)壁連接第一底壁，底盤具有連接座，中心座與連接座周向固定連接，支臂的第一端與中心座固定連接，支臂的第二端遠離中心座；支臂包括第一面和第二面，第一面背離第一底壁，第一清洗部位于第一面，第二面朝向第一底壁，第二清洗部位于第二面。

23、在以上一個或多個可選的實施方式中，限位組件設(shè)于連接座和中心座之間，限位組件在底盤的上表面的投影位于中心座所在范圍內(nèi)。

24、在以上一個或多個可選的實施方式中，定義清洗肋盤旋轉(zhuǎn)一周的軌跡形成第一旋轉(zhuǎn)圓，第一旋轉(zhuǎn)圓的邊緣上的任意一點與第一側(cè)壁之間的最小距離h1的范圍，h1≤1cm。

25、在以上一個或多個可選的實施方式中，第二清洗部包括第一刮條，第一刮條連接于支臂朝向第一底壁的一側(cè)，第一刮條接觸第一底壁，定義第一刮條旋轉(zhuǎn)一周的軌跡形成第二旋轉(zhuǎn)圓，第二旋轉(zhuǎn)圓的邊緣上的任意一點與第一側(cè)壁之間的最小距離h2的范圍，h2≤0.8cm。

26、在以上一個或多個可選的實施方式中，清洗肋盤還包括第二刮條，第二刮條連接支臂背離中心座的一端，第二刮條接觸第一側(cè)壁。

27、本技術(shù)還提供一種清潔基站，包括基站主體，基站主體底部具有供清潔機器人?？康耐？课?；以及上述任意一個實施例中的清洗裝置，清洗裝置設(shè)于基站主體的?？课惶?。

28、本技術(shù)還提供一種清洗系統(tǒng)，包括清潔機器人，以及任意一個實施例中的清潔基站。

29、本技術(shù)還提供一種安裝有上述任意一個實施例中的清洗裝置的清潔基站的自清潔方法，清潔基站的基站主體包括供液裝置和供液通道，第一清洗部上用于與清潔件接觸的表面形成有第一凹槽，第一凹槽用于承接供液通道流出的液體，供液裝置用于提供液體并經(jīng)供液通道輸出至第一凹槽；方法包括：

30、在清潔件沿第一方向轉(zhuǎn)動而帶動清洗肋盤相對于底盤轉(zhuǎn)動至第一停止狀態(tài)后，響應(yīng)于清潔件沿第二方向開始轉(zhuǎn)動開始計時；

31、在計時時長達到預(yù)設(shè)時長后控制供液裝置供液。

32、在以上一個或多個可選的實施方式中，清潔方法還包括步驟：控制兩個清潔件的轉(zhuǎn)速，使連接兩個清潔件的兩個清洗肋盤具有不同的轉(zhuǎn)速。

33、上述清洗裝置清潔基站、清潔系統(tǒng)及清潔基站的自清潔方法，通過清潔件帶動清洗肋盤，使第二清洗部清潔底盤，并在清洗肋盤處于停止旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)時，清潔件相對第一清洗部旋轉(zhuǎn)，使第一清洗部對清潔件進行清潔，對底盤和清潔件一同進行清潔，減少底盤臟污殘留，并且清洗肋盤的轉(zhuǎn)過的角度大于或等于360°，減少清潔盲區(qū)，提升清潔效果，進一步減少底盤臟污殘留，減少用戶的勞動負擔，提升用戶體驗。